LCP-16 Ologram Anrejistreman Anba Limyè Sal la
Remak: asye pur tab optik oswa breadboard pa bay yo
Sa a ka mete olografi dwe opere anba limyè chanm ak yon plak fotopolimèr, pandan y ap mòd debaz yo dwe itilize nan yon chanm nwa (ak plak sèl ajan), li pi bon pou ou pou w fè eksperyans.
Avantaj nan chanm-limyè olografi ak blan-limyè rekonstriksyon se konvenyans nan operasyon ak efikasite diffraction segondè, se konsa ke imaj la nan objè a ka rekonstwi trè byen.
Remak: yon tab optik asye pur oswa breadboard (1200mmx600 mm x 600 mm) ak tranpaj optimal ki nesesè pou itilize ak twous sa a.
Eksperyans:
1. Fresnel (transmissive) olografi
2. Meditativ olografi
3. Imaj olografi avyon
4. De-etap olografi lakansyèl
5. One-etap olografi lakansyèl
Espesifikasyon
Atik |
Espesifikasyon |
Semiconductor lazè | Sant longèdonn: 650 nm |
Pleasant <0.2 nm | |
Pouvwa: 40 mW | |
Panno Ekspozisyon ak revèy | 0.1 ~ 999.9 s |
Mòd: B-Gate, T-Gate, Distribisyon, ak Open | |
Operasyon: Manyèl kontwòl | |
Kontini Pwopòsyon Splitter | T / R Pwopòsyon kontinyèlman reglabl |
Fiks Splitter gwo bout bwa Pwopòsyon | 5: 5 ak 7: 3 |
Plak olografik | Wouj sansib Photopolymer Plak |
Lis Pati
Deskripsyon | Kantite |
Semiconductor lazè | 1 |
Linèt sekirite lazè | 1 |
Semiconductor lazè Holder | 1 |
Panno ekspozisyon ak revèy | 1 |
Splitter gwo bout bwa rapò fiks yo | 5: 5 & 7: 3 (1 chak) |
Photopolymer plak olografik | 1 bwat (12 fèy, 90 mm x 240 mm pou chak fèy) |
Plak detantè | 1 chak |
Tri-koulè lanp sekirite | 1 |
Lens | f = 4.5 mm, 6.2 mm (1 chak) ak 150 mm (2 pcs) |
Iwa avyon | 3 |
Inivèsèl baz mayetik | 10 |
Splitter gwo bout bwa kontinyèlman varyab | 1 |
Detantè lantiy | 2 |
De-aks detantè reglabl | 6 |
Etap echantiyon | 1 |
Ti objè | 1 |
Elektrik balèn | 1 |
Vè tè | 1 |
Ti ekran blan | 1 |
Z tradiksyon sou baz mayetik | 2 |
XY tradiksyon sou baz mayetik | 1 |
Illuminometer | 1 |
Twal ekran | 1 |
Ekri mesaj ou isit la epi voye li ban nou