Twous Eksperyans Olografi ak Entèferometri LCP-2
Eksperyans
1. Anrejistreman ak rekonstriksyon ologram
2. Fè griyaj olografik
3. Konstriksyon yon entèferomèt Michelson epi mezire endis refraksyon lè a
4. Konstriksyon yon entèferomèt Sagnac
5. Konstriksyon yon entèferomèt Mach-Zehnder
Lis Pati
Deskripsyon | Espesifikasyon/Nimewo Pati | Kantite |
Lazè He-Ne | >1.5 mW@632.8 nm | 1 |
Ouvèti reglabl ba kranpon | 1 | |
Detantè Lantiy | 2 | |
De-Aks Miwa Sipò | 3 | |
Detantè plak | 1 | |
Baz mayetik ak detantè pòs | 5 | |
Separatè gwo bout bwa | 50/50, 50/50, 30/70 | 1 chak |
Miwa plat | Φ 36 mm | 3 |
Lantiy | f ' = 6.2, 15, 225 mm | 1 chak |
Etap Egzanp | 1 | |
Ekran Blan | 1 | |
Ray optik | 1 mèt; aliminyòm | 1 |
Transpòtè | 3 | |
X-Tradiksyon Carrier | 1 | |
XZ-Transpòtè Tradiksyon | 1 | |
Plak olografik | 12 asyèt sèl an ajan (9 × 24 cm chak asyèt) | 1 bwat |
Chanm lè ak ponp ak kalib | 1 | |
Kontwa Manyèl | 4 chif, konte 0 ~ 9999 | 1 |
Remak: Pou itilize ak twous sa a, ou bezwen yon tab optik oswa yon breadboard an asye pur (1200 mm x 600 mm) ki gen yon amortisman optimal.
Ekri mesaj ou a isit la epi voye l ban nou