Twous Eksperyans Olografi LCP-7 – Modèl debaz
Espesifikasyon
| Atik | Espesifikasyon |
| Semiconductor lazè | Longèdonn Sant: 650 nm |
| Lajè liy: <0.2 nm | |
| Pouvwa > 35 mW | |
| Panno ekspoze ak revèy | 0.1 ~ 999.9 s |
| Mòd: B-Gate, T-Gate, Distribisyon, ak Louvri | |
| Operasyon: Manyèl kontwòl | |
| Linèt sekirite lazè | OD>2 soti nan 632 nm a 690 nm |
| Plak olografik | Wouj fotopolymère sansib |
Lis Pati
| Deskripsyon | Kantite |
| Semiconductor lazè | 1 |
| Ekspozisyon vole ak revèy | 1 |
| Baz inivèsèl (LMP-04) | 6 |
| Detantè reglabl de aks (LMP-07) | 1 |
| Detantè lantiy (LMP-08) | 1 |
| Detantè plak A (LMP-12) | 1 |
| Detantè plak B (LMP-12B) | 1 |
| Detantè reglabl de aks (LMP-19) | 1 |
| Ekstansyon gwo bout bwa | 1 |
| Iwa avyon | 1 |
| Ti objè | 1 |
| Wouj plak polymère sansib | 1 bwat (12 fèy, 90 mm x 240 mm pou chak fèy) |
Remak: yon tab optik asye pur oswa breadboard (600 mm x 300 mm) ak amortissement optimal nesesè pou itilize ak twous sa a.
Ekri mesaj ou la a epi voye l ba nou
