Twous Eksperyans Olografi LCP-7 – Modèl Debaz
Espesifikasyon
| Atik | Espesifikasyon |
| Lazè semi-kondiktè | Longèdonn Santral: 650 nm |
| Lajè liy: < 0.2 nm | |
| Pouvwa >35 mW | |
| Deklanchè Ekspozisyon ak Minitè | 0.1 ~ 999.9 segonn |
| Mòd: B-Gate, T-Gate, Distribisyon, ak Ouvèti | |
| Operasyon: Kontwòl Manyèl | |
| Linèt Sekirite Lazè | OD>2 soti nan 632 nm rive nan 690 nm |
| Plak olografik | Fotopolimè wouj sansib |
Lis Pati
| Deskripsyon | Kantite |
| Lazè semi-kondiktè | 1 |
| Obturatè ekspozisyon ak revèy | 1 |
| Baz inivèsèl (LMP-04) | 6 |
| Sipò reglabl de aks (LMP-07) | 1 |
| Sipò pou lantiy (LMP-08) | 1 |
| Sipò plak A (LMP-12) | 1 |
| Sipò plak B (LMP-12B) | 1 |
| Sipò reglabl de aks (LMP-19) | 1 |
| Ekspansyon gwo bout bwa | 1 |
| Miwa avyon | 1 |
| Ti objè | 1 |
| Plak polymère sansib a wouj | 1 bwat (12 fèy, 90 mm x 240 mm pa fèy) |
Remak: Pou itilize ak twous sa a, ou bezwen yon tab optik oswa yon breadboard an asye pur (600 mm x 300 mm) ki gen yon amortisman optimal.
Ekri mesaj ou a isit la epi voye l ban nou
